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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品,而努力

Work hard to make your product

器件封裝
  • 倒裝鍵合
    芯片尺寸:5*5mm-5*5cm 厚度<2mm,溫度<450℃ 精度:±3μm,壓力<100kg,2寸晶圓對晶圓鍵合
  • 晶圓鍵合
    陽極鍵合、共晶鍵合(PbSn,AuSn,CuSn,AuSi等等)、膠鍵合(BCB,SU8,鍵合專用膠),對準(zhǔn)精度±5μm
  • 點(diǎn)膠
    工作范圍:≤300*300mm,膠量控制:容積式和氣壓式,膠水黏度<50kCPS,單次膠量<0.16900ml,時間設(shè)置范圍<9.999sec
  • 貼片
    銀漿、焊料
  • 引線
    球形焊、楔形焊;Au線,Al線
  • 回流爐
    真空:2mbar,溫度<450℃±0.05℃
  • 平行封焊
    各類金屬管殼,位置精度:±0.0381mm,壓力<5kg
  • TSV(硅通孔)工藝
    1、通孔的形成;2、絕緣層、阻擋層和種子層的淀積;3、電鍍填充,去除和再布線;4、晶圓減?。?、鍵合、劃片
  • TGV(玻璃通孔工藝)
    可完成打孔、沉積、填充再布線、減薄、鍵合劃片等。




  • 案例展示


                               

            底層管芯與頂層管芯堆疊連接            Cu-Cu Metal Diffusion Bond             TSV(Cu&Sn鍵合)Process            Ultra High Density TGV For MEMS







    【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?
    【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?

    2024-11-04

    本文將詳細(xì)介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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    【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備,是智能制造加速器還是成本黑洞?
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    2024-11-05

    在半導(dǎo)體芯片制造中,從原材料處理到最終封裝測試,整個流程涉及上千道工序,每一環(huán)節(jié)都需要精確控制,以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展,...

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    【半導(dǎo)體材料】當(dāng)微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料
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    2024-11-06

    超疏水表面材料以其對水的高度排斥性,不僅改變了我們對物質(zhì)與水之間相互作用的傳統(tǒng)認(rèn)知,更在船舶浮力提升、管道運(yùn)輸優(yōu)化、織物功能拓展以及微流體控...

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    【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局
    【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局

    2024-11-07

    RDL(Redistribution Layer,重布線層)工藝在先進(jìn)封裝領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。它不僅優(yōu)化了芯片的I/O布局,提高了數(shù)據(jù)傳輸效率,還為芯片的...

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