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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品,而努力

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刻蝕
  • 堿性腐蝕
    KOH,TMAH
  • 酸性腐蝕
    HF,BOE,HCI,HNO3等
  • 光刻膠剝離
    Acetone,IPA
  • 電感耦合等離子刻蝕
    GaN,GaAs,InP
  • 深硅刻蝕DRIE
    刻蝕均勻性<±5%,選擇比>50:1
  • 深氧化硅刻蝕
    石英,玻璃,硅,刻蝕形貌:90°±1°
  • 離子束刻蝕
    用于較難刻蝕的金屬或其他物質(zhì)
  • 反應(yīng)離子刻蝕
    Si,SiO?,SiNx
  • 灰化
    光刻膠,聚合物


案例展示


                         

          RIE of InP waveguide 7um polyimide                BOSCH工藝                   Deep Si etch SOI Notch Free                  SOI Notch Free      





【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?
【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?

2024-11-04

本文將詳細(xì)介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備,是智能制造加速器還是成本黑洞?
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2024-11-05

在半導(dǎo)體芯片制造中,從原材料處理到最終封裝測(cè)試,整個(gè)流程涉及上千道工序,每一環(huán)節(jié)都需要精確控制,以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展,...

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【半導(dǎo)體材料】當(dāng)微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料
【半導(dǎo)體材料】當(dāng)微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料

2024-11-06

超疏水表面材料以其對(duì)水的高度排斥性,不僅改變了我們對(duì)物質(zhì)與水之間相互作用的傳統(tǒng)認(rèn)知,更在船舶浮力提升、管道運(yùn)輸優(yōu)化、織物功能拓展以及微流體控...

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【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局
【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局

2024-11-07

RDL(Redistribution Layer,重布線層)工藝在先進(jìn)封裝領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。它不僅優(yōu)化了芯片的I/O布局,提高了數(shù)據(jù)傳輸效率,還為芯片的...

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